硅纳米颗粒的光致发光特性研究及其制备优化

脉冲激光烧蚀法在制备硅纳米颗粒过程中，缓冲气体压力是一个关键参数。研究发现，在50-100 Pa的氩气压力范围内，硅纳米颗粒的尺寸均匀，并随气压增大而减小。通过扫描电镜观察和粒度统计分析，确认了这一关系，并对脉冲激光烧蚀法的动力学进行了理论分析。光致发光测试显示，硅纳米颗粒在280 nm光激发下表现出蓝紫光区的发光特性，其中在50 Pa气压下显示双峰结构（372 nm和445 nm），而在70 Pa和100 Pa气压下则分别呈现单一的紫光峰（379 nm和393 nm）。这些发现归结为硅纳米颗粒表面氧化层的表面态效应。